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详细摘要： 型号：CHY-T1500-80IT-HY用途：主要用于氢气还原实验和生产规格：1200℃/1500℃/1700℃特点：功能完备，全智能自动操作
产品型号： 所在地：郑州市 更新时间：2022-08-01 在线留言
详细摘要： 型号：CMT1200用途：主要用于快速升降温领域。规格： Φ60*1000mm特点：炉膛可以根据设定要求，不但可以实现自动左右移动，而且移动速度可人工调...
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详细摘要： 主要功能和特点：1、设备炉管可360度旋转，管内壁有不锈钢挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀。2、可大角度倾斜，方便进出料。3、采用法兰连接，减少了加热管损坏的...
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详细摘要： 型号：T1760B产品概述：T1760B是一款双温区管式炉，刚玉管外径60mm，加热元件为硅钼棒，加热区分为两个温区可同时烧结两种材料，也可以作为加长单温区管式...
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详细摘要： 型号：T1760A用途：物理/化学气象沉积（CVD/PVD）以及真空/气氛保护烧结、纳米材料制备。规格：单温区 管径大小为Φ60*1000mm特点：控温...
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详细摘要： 该常规型CVD设备是由1700℃管式炉、三路质量流量计和真空泵系统组成，用户可以选配不同型号的炉子和气路系统搭配不同的化学气相沉积系统。
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详细摘要： 型号：T1560B用途：适用于CVD镀膜实验中用到多个温度梯度；多个温区设定同一温度点可作为加长的单温区使用规格：100～1500℃特点：温区加长，可实现两个温...
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详细摘要： 型号：T1550S用途：1500℃以下真空或气氛状态下烧结实验规格：刚玉管50*700mm特点：体积小，价格低，操作简便
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详细摘要： 型号：CHY-T1500-80ILT用途：1500℃以下真空或气氛状态下一次烧结多种样品特点：温区延长至480mm，可一次性烧结更多量样品
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详细摘要： 型号：R1260A用途：主要用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料的实验室煅烧及干燥。规格：Φ60*1000特点：炉管可360度旋转，有助于...
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详细摘要： 型号：T1260A用途：真空或气氛保护状态下烧结，CVD薄膜实验等规格：Φ50*1000，Φ60*1000，Φ80*1000，Φ...
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详细摘要： 1200℃双温区管式炉，其温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，而且都为PID...
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详细摘要： 型号：T1280C用途：某些热处理实验有时需要一个或多个温度梯度，比如CVD等镀膜试验。如此就会用到多温区的管式炉。规格： Φ60*1400mm特点：三...
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详细摘要： 型号：T1250S用途：物理/化学气象沉积（CVD/PVD）实验以及真空/气氛保护烧结、纳米材料制备等。规格：Φ50*600mm特点：较小的炉膛不仅使得...
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详细摘要： 此款炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计，压力高达21MPa，温度可达1100℃，并可通入多种氧化或惰性保护气体。对于高压制备新材料和作为小型热...
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详细摘要： 型号：T12152C用途：此设备是专门为大工件或大批量热处理生产而研发制造的。规格：Φ152*1650mm特点：152mm超大管径，1100mm超长温区...
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